首页 - 产品展示 - 去光阻液产品中心
| 产品名称 | 产品外观 | 密度 | pH(3%) | 用途及使用方法 | 产品特点 |
| ASTP100 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于半导体芯片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）碱性有机体系； （2）对不腐蚀； |
| ASTP130 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）碱性有机体系； （2）对Al、Ag、Ti和Wu等金属不腐蚀； （3）去胶寿命长； |
| ASTP210 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于蓝宝石和硅衬底芯片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）强碱性有机体系； （2）对Al、Ag、Ti和Wu等金属不腐蚀； （3）高效去除高压和倒装芯片残胶； |
| ASTP300 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 2.0-3.0 | 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）酸性有机体系； （2）对负胶有很强的去除能力； |
| ASTP219 | 褐色液体 | 1.00-1.10 | 10.0-11.0 | 用于黄光GaAs芯片去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）酸性有机体系； （2）对GaAs无腐蚀； |